选择栅格模型以修正工艺配方的方法及其光刻组件.pdf

本发明涉及一种选择栅格模型以在光刻设备中针对栅格变形来修正工艺配方的方法。首先，提供一组栅格模型。随后，通过对多个衬底上的多个对准标记执行对准测量来获得对准数据。对于每个栅格模型，检查对准数据是否适于求解该栅格模型。如果是的话，则栅格模型被添加到栅格模型的子组中。选择具有最低余量的栅格模型。除了对准数据之外，通过对多个衬底上的多个套刻标记执行套刻测量来获得计量数据。然后，针对该子组中的每个栅格模型可以确定所模拟的计量数据，该所模拟的计量数据被用于确定套刻性能指标。然后，利用套刻性能指标来选择栅格模型。