用于形成液浸曝光工艺用光刻胶保护膜的材料、以及使用该保护膜的光刻胶图案形成方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/20 9:04:53
  4. 文件大小:2129K
  5. 下载次数:0
  6. 消耗积分 : 50积分 移动终端:免积分

收藏

简介:

一种液浸曝光工艺,特别是通过在光刻曝光光线到达光刻胶膜的通路中,至少在前述光刻胶膜上设置特定厚度的,折射率比空气大并且比前述光刻胶膜小的液体的状态下,进行曝光提高光刻胶图案的分辨率,同时防止使用以水为首的各种浸渍液的液浸曝光中的光刻胶膜的变质和所使用浸渍液的变质,并且没有导致处理工艺步骤的增加,并可以形成使用液浸曝光的高分辨率光刻胶图案。在所使用的光刻胶膜的表面上形成了具有与浸渍光刻胶膜的液体特别是水实质上不相溶,而可溶于碱的特性的保护膜。

打开失败或需在电脑查看,请在电脑上的资料中心栏目,点击"我的下载"。建议使用手机自带浏览器。

  • 注意:
  • 1、下载文件需消耗流量,最好在wifi的环境中下载,如果使用3G、4G下载,请注意文件大小
  • 2、下载的文件一般是pdf、word文件,下载后如不能直接浏览,可到应用商店中下载相应的阅读器APP。
  • 3、下载的文件如需解压缩,如果手机没有安装解压缩软件,可到应用商店中下载相应的解压缩APP。