您还有0次抽奖机会
锤子
除去光刻胶和蚀刻残渣的方法.pdf
- 类别：专利
- 上传人：wuyuzegang
- 上传时间：2023/4/21 14:53:53
- 文件大小：736K
- 下载次数：0
-
消耗积分 : 50积分 移动终端：免积分
简介：
提供等离子体灰化的方法,以除去在介电层的前一等离子体蚀刻过程中形成的光刻胶残余物和蚀刻残渣。灰化方法使用牵涉两步的等离子体工艺和含氧气体,其中在第一清洗步骤中向基片施加低或零偏压,从基片上除去大量光刻胶残余物和蚀刻残渣,另外从腔室表面上蚀刻并除去有害的氟烃残渣。在第二步清洗步骤中向基片施加增加的偏压,以便从基片上除去剩余的光刻胶和蚀刻残渣。两步工艺降低在常规的一步灰化工艺中常常观察到的记忆效应。可使用终点检测方法监控灰化工艺。
打开失败或需在电脑查看，请在电脑上的资料中心栏目，点击"我的下载"。建议使用手机自带浏览器。
推荐学习更多>>
-
￥50 -
￥50
-
￥50
-
￥50
- 注意：
- 1、下载文件需消耗流量，最好在wifi的环境中下载，如果使用3G、4G下载，请注意文件大小。
- 2、下载的文件一般是pdf、word文件，下载后如不能直接浏览，可到应用商店中下载相应的阅读器APP。
- 3、下载的文件如需解压缩，如果手机没有安装解压缩软件，可到应用商店中下载相应的解压缩APP。