光刻装置和器件制造方法.pdf

本发明提供一种光刻装置,包括：照明系统,提供辐射投射光束；构图部件,用来使投射光束在其横截面内具有图案；基底台,用于支承基底；投影系统,把形成图案的光束投影到基底靶部；检测器,在基底位于投影系统将形成图案的光束投影到基底的位置的同时检查基底；控制器,响应来自检测器的信息调整至少下述一个参数：被投影到基底上的图案相对基底的位置；被投影到基底上的图案的放大率；和最佳聚焦象面；其中该检测器有多个传感器,用于同时检查横跨该基底的整个宽度的多个基底部分；构图部件和投影系统布置成曝光基底的整个宽度,由此能在基底相对装置的单次通过中检查和曝光基底。本发明还提供相应的器件制造方法、基底曝光方法和由此形成的平板显示器。