用于评估光刻中的多次曝光工艺的结果的方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/21 15:41:17
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简介:

一种评估多次曝光光刻工艺的工艺结果的方法,首先独立地确定多次曝光工艺的各曝光步骤或工艺的一组期望图像(组1,组2),然后通过由来自后面的曝光步骤的加权图像(组2)调整来自第一或在前的曝光步骤的图像(组1),来获得复合图像组(最终组)。优选,通过在各曝光步骤的散焦范围上以标准化空间图像的形式进行模拟,来确定期望的图像,所使用的加权因数为后面的曝光剂量与前面步骤的曝光剂量的剂量比值。可以使用最终的复合图像组来评估多次曝光光刻工艺,例如,对于给定的剂量和焦距误差预计来提供产量评估,或可选的是,提供用于实现获得目标产量所需的工具误差预计的规格。

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