亚波长光刻的实施相平衡散射条放置模型的方法及其装置.pdf

一种产生其中布置有光学邻近校正特征的掩模设计的方法,包括：获得具有将被成像在基片上的特征的希望的目标图案；根据目标图案确定第一干涉图,第一干涉图定义了所述将被成像的特征中的至少一个特征和邻近至少一个特征的场区之间的相长干涉的区域；基于由第一干涉图确定的相长干涉区域,在掩模设计中放置具有第一相的第一组辅助特征；基于第一组辅助特征确定第二干涉图,第二干涉图定义所述第一组辅助特征的辅助特征和邻近所述第一组辅助特征的辅助特征中的至少一个辅助特征的场区域之间的相长干涉的区域；和基于由第二干涉图确定的相长干涉区域在掩模设计中放置具有第二相的第二组辅助特征,其中第一相不等于所述第二相。