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锤子
为用于深的亚波长光刻的掩模原版图案提供光学逼近特征的方法和装置.pdf
- 类别：专利
- 上传人：wuyuzegang
- 上传时间：2023/4/21 17:07:17
- 文件大小：2124K
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简介：
一种产生具有设置在其中的光学逼近校正特征的掩模设计的方法,该方法包括下述步骤：获得具有在衬底上要成像的特征的所希望的靶图案；基于所述靶图案确定干涉图,所述干涉图在至少一个要成像的所述特征与邻接所述至少一个特征的场区域之间限定相长干涉区域和相消干涉区域；以及在掩模设计中基于相长干涉区域和相消干涉区域来设置辅助特征。
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