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一种用于模拟光刻过程的方法,包括以下步骤:生成所述的光刻过程的已校准模型,所述已校准模型能推断将由所述光刻过程在用于对含有多个特征的掩模图案成像时产生的像;确定所述已校准模型的操作窗口,所述操作窗口确定所述已校准模型是否能精确地推断由所述掩模图案中的特定特征所产生的像;将所述掩模图案的所述多个特征中的每个特征和所述已校准模型的所述操作窗口进行比较;以及识别不处于所述已校准模型的操作窗口之内的所述掩模图案的所述多个特征中的每一个。本发明还提供一种用于模拟光刻过程的装置。
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