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一种用参考基底前侧和后侧上的标记校准包括前到后侧对准光学装置的光刻装置的方法,该方法包括:计算通过前到后侧对准光学装置观察到的所述参考基底后侧上的标记的位置和所述参考基底后侧上的标记的实际位置之间的位移矢量;相对所述前到后侧对准光学装置移动所述参考基底一小段距离,并比较所述参考基底后侧上的标记的像移动的距离和所述参考基底前侧上的标记的移动的距离以产生第一校正矢量:和对于在所述参考基底上的不同标记重复移动所述参考基底的上述步骤以产生第二校正矢量;因而位移矢量、第一校正矢量和第二校正矢量为校准信息。
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