用于光刻工艺窗口最优化的方法和系统.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/21 19:45:00
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简介:

一种用于关于光刻工艺窗口的布图最优化的新型方法和系统,其促进光刻约束不被局部化,以便于提供通过工艺窗口印刷给定电路的能力,该工艺窗口超过使用常规的简化设计规则获得的工艺窗口。

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