处理半导体衬底的方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/21 20:00:45
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简介:

根据具体实施方式,公开了一种处理半导体衬底的方法,从而减薄衬底,并且通过普通的工艺将衬底上形成的小片分成单个。在衬底的背侧上形成沟槽区(42、43)。对背侧的各向异性蚀刻导致了衬底减薄同时保持沟槽深度,从而便于将管芯分成单个。

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