光刻装置和装置调节方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/21 21:10:35
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简介:

一种光刻投影装置,包括可将衬底或掩模等固定成穿过光路的支撑台。支撑台具有支撑面和从支撑面上延伸出来的突起的阵列,以便将衬底等的背面支撑在突起上。设置了检测器来测量会影响衬底等的表面光洁度的各个突起的高度偏差。在去除装置具有足够的去除强度以从单个突起中除去部分突起材料的情况下,位置选择性的材料去除和/或增添装置设置成可在支撑台处于光刻投影装置中的可操作状态时对单个突起独立地起作用。控制单元可控制材料去除和/或增添装置,以便选择性地从各个突起材料中与各个突起的各自测得的高度偏差相对应地除去一定量的材料,和/或为各个突起材料增添一定量的材料。

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