互补金属氧化物半导体图像传感器及其制造方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/22 11:32:26
  4. 文件大小:673K
  5. 下载次数:0
  6. 消耗积分 : 50积分 移动终端:免积分

收藏

简介:

公开了一种CMOS图像传感器及其制造方法,其中在有源区与场区之间的边界未被离子注入损坏。制造CMOS图像传感器的方法包括在第一导电型半导体衬底中形成沟槽,在沟槽两侧的半导体衬底中形成第一导电型重掺杂杂质离子区,通过在沟槽与器件隔离之间插入绝缘膜形成器件隔离膜,在半导体衬底上依次形成栅绝缘膜和栅电极,在栅电极和器件隔离膜之间的半导体衬底中形成光电二极管的第二导电型杂质离子区。

打开失败或需在电脑查看,请在电脑上的资料中心栏目,点击"我的下载"。建议使用手机自带浏览器。

  • 注意:
  • 1、下载文件需消耗流量,最好在wifi的环境中下载,如果使用3G、4G下载,请注意文件大小
  • 2、下载的文件一般是pdf、word文件,下载后如不能直接浏览,可到应用商店中下载相应的阅读器APP。
  • 3、下载的文件如需解压缩,如果手机没有安装解压缩软件,可到应用商店中下载相应的解压缩APP。