在浸润光刻系统中监视及控制成像的方法.pdf
- 类别:专利
- 上传人:wuyuzegang
- 上传时间:2023/4/22 11:39:37
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简介:
一种监视浸润光刻系统(10)的方法,于此系统(10)中晶片(12)能浸润于液态浸润媒介(24)中。该方法检测于浸润媒介中曝光图案设为在其中横越的浸润媒介的体积的折射率,而确定该折射率是否适合以曝光图案将晶片予以曝光。本发明还披露一种用于浸润光刻系统(10)的监视和控制系统(26)。
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