光刻设备和器件制造方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/22 16:41:39
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简介:

一种控制系统,用于控制光刻设备中的平台的位置参数,所述控制系统包括平台控制器,被配置用于控制所述平台沿至少第一方向的位置参数。控制系统包括扰动力矩估计器,用于估计所述平台上绕沿第二方向延伸的轴的扰动力矩,所述第二方向实质上与第一方向垂直。控制系统校正信号计算器,所述校正信号计算器配备有已估计的扰动力矩和表示所述平台沿第三方向位置的信号,所述第三方向实质上与第一和第二方向垂直。校正信号计算器确定前馈校正信号以校正所述平台由于扰动力矩导致的、沿第一方向的位置误差,所述前馈校正信号将被馈送给所述平台。

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