化合物、光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜及图案形成方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/23 9:09:21
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简介:

本发明的光刻用下层膜形成材料,其含有下述通式(1)所示的化合物。(式(1)中,X各自独立地是氧原子或硫原子,R~1是单键或碳原子数为1~30的2n价的烃基,该烃基可以具有环式烃基、双键、杂原子或碳原子数为6~30的芳香族基团,R~2各自独立地是碳原子数为1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳原子数为6~10的芳基、碳原子数为2~10的烯基或羟基,在此,R~2的至少一个是羟基,m各自独立地是1~4的整数,n是1~4的整数,p是0或1。)

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