用于通过嵌段共聚物的自组装在衬底上提供间隔的光刻特征的方法.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/23 9:11:19
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简介:

一种形成多个规律地间隔的光刻特征的方法,所述方法包括:在衬底上的多个沟道中提供能够自组装的嵌段共聚物,所述嵌段共聚物具有第一嵌段和第二嵌段,每个沟道包括相对的侧壁和基部,所述侧壁具有侧壁间的宽度,其中第一沟道具有大于第二沟道的宽度;使能够自组装的嵌段共聚物在每个沟道中自组装成有序层,所述层具有与第二嵌段的第二域交替的第一嵌段的第一域,其中所述第一沟道和第二沟道具有相同数量的每种相应的域;以及选择性地移除第一域,以沿着每个沟道形成具有第二区域的规律地间隔的成行的光刻特征,其中,在第一沟道中的特征的节距大于在第二沟道中特征的节距。

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