半导体装置.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/23 9:33:29
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简介:

公开了半导体装置。本发明的一个实施方式提供一种使用氧化物半导体的半导体装置,该半导体装置在维持良好的电特性的同时实现了微型化。在该半导体装置中,氧化物半导体层被包含含有过剩的氧的氧化铝膜的绝缘层包围。氧化铝膜所包含的过剩的氧通过半导体装置的制造工序中的加热处理而被供应给其中形成沟道的氧化物半导体层。并且,由于氧化铝膜具有对氧及氢的阻挡性,所以可以抑制氧从被包含氧化铝膜的绝缘层包围的氧化物半导体层脱离以及氢等杂质混入氧化物半导体层,由此可以使氧化物半导体层高纯度本征化。另外,由设置在氧化物半导体层上侧及下侧的栅电极层良好地控制阈值电压。

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