用于在EUV光刻中监测焦点的方法.pdf

本发明涉及一种使用包含具有辅助特征图案的EUV掩模来获得用于在EUV光刻中曝光光致抗蚀剂的最优焦点的方法。本发明也涉及一种具有用于在EUV光刻中监测焦点的特定焦点测试目标的EUV掩模,和一种通过设计特定焦点测试目标而制造该EUV掩模的方法。EUV掩模包含重复图案,其中重复图案具有两个不同节距,即,第一节距和第二节距,并且在主要特征之间包含辅助特征。因为所述两个不同节距具有不同的焦点偏移,在光栅的线宽之间的所述差提供了校准曲线,校正曲线为焦点的测量。用于监测焦点的方法为使用利用在两个光栅之间的线宽差校准的预确定焦点位置的焦点位置而进行EUV曝光。本发明的用于监测焦点的EUV掩模均适用于测试和产品掩模。