用于光刻度量的方法、设备和衬底.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/25 17:22:26
  4. 文件大小:2716K
  5. 下载次数:0
  6. 消耗积分 : 50积分 移动终端:免积分

收藏

简介:

一种衬底具有通过光刻工艺形成在其上的三个或更多叠置光栅。每个叠置光栅具有已知的叠置偏置。叠置偏置的值包括例如在居中于零点上区域中的两个值,以及居中在P/2上区域中的两个值,其中P是光栅的节距。使用不同的叠置偏置值的认知以及在叠置和目标非对称性之间的假设非线性相互关系从对于光栅的非对称性测量而计算叠置,由此校正特征非对称性。在零偏置和P/2区域中周期性关系具有相反符号的梯度。计算允许所述梯度具有不同的幅度以及相反的符号。计算也提供关于特征非对称性和其他处理效果的信息。该信息用于改进测量方法和/或光刻方法的后续性能。

打开失败或需在电脑查看,请在电脑上的资料中心栏目,点击"我的下载"。建议使用手机自带浏览器。

  • 注意:
  • 1、下载文件需消耗流量,最好在wifi的环境中下载,如果使用3G、4G下载,请注意文件大小
  • 2、下载的文件一般是pdf、word文件,下载后如不能直接浏览,可到应用商店中下载相应的阅读器APP。
  • 3、下载的文件如需解压缩,如果手机没有安装解压缩软件,可到应用商店中下载相应的解压缩APP。