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本发明涉及结合不同图案材料的光学光刻技术。具体的,本发明提供一种用于图案化工件的技术,所述工件例如集成电路工件。在示范性实施例中,所述方法包含接收工件,所述工件具有设置在衬底上的材料层。第一组鳍形成在所述材料层上,并且第二组鳍形成在所述材料层上,穿插在所述第一组鳍之间。所述第二组鳍具有与所述第一组鳍不同的蚀刻剂灵敏度。在所述第一组鳍上实施第一蚀刻工艺并且经配置以避免实质上蚀刻所述第二组鳍。在所述第二组鳍上实施第二蚀刻工艺并且经配置以避免实质上蚀刻所述第一组鳍。所述材料层被蚀刻以转移图案,所述图案由所述第一蚀刻工艺和所述第二蚀刻工艺界定。
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