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锤子
光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜及图案形成方法.pdf
- 类别：专利
- 上传人：wuyuzegang
- 上传时间：2023/4/26 8:18:30
- 文件大小：2645K
- 下载次数：0
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简介：
提供碳浓度高、氧浓度低、耐热性较高、溶剂溶解性也比较高、能够适用湿式工艺的新型光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜及图案形成方法。一种下述通式(1)所示的化合物作为光刻用下层膜的应用,式(1)中,X各自独立地是氧原子或硫原子,R1各自独立地是单键或碳原子数为1～30的2n价的烃基,该烃基任选具有环式烃基、双键、杂原子或碳原子数为6～30的芳香族基团,R2各自独立地是碳原子数为1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳原子数为6～10的芳基、碳原子数为2～10的链烯基或羟基,其中,R2的至少一个是羟基,m各自独立地是1～6的整数,n是1～4的整数。
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