光刻用膜形成材料、光刻用膜形成用组合物、光刻用膜、图案形成方法及纯化方法.pdf
- 类别:专利
- 上传人:wuyuzegang
- 上传时间:2023/4/26 9:55:36
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简介:
本发明的光刻用膜形成材料,其含有下述式(1)所示的化合物。(式(1)中,R0各自独立地是含有氧原子的一价基团、含有硫原子的一价基团、含有氮原子的一价基团、烃基或卤原子,p各自独立地是0~4的整数。
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