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纳米压印光刻法包括将预处理组合物配置在纳米压印光刻基材上以形成预处理涂层;将压印抗蚀剂的离散部分配置在预处理涂层上,所述压印抗蚀剂的各离散部分覆盖纳米压印光刻基材的目标区域。压印抗蚀剂是聚合性组合物并且包含聚合引发剂。随着压印抗蚀剂的各离散部分展开超出纳米压印光刻基材的目标区域而在纳米压印光刻基材上形成复合聚合性涂层。将复合聚合性涂层与纳米压印光刻模板接触。使聚合引发剂活化,并且使复合聚合性涂层聚合以在纳米压印光刻基材上产生复合聚合物层、和预处理涂层的未固化部分。在使复合聚合性涂层聚合以产生复合聚合物层之后,使预处理涂层的未固化部分聚合。
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