用于从半导体基板去除光刻胶的剥离组合物.pdf

  1. 类别:专利
  2. 上传人:wuyuzegang
  3. 上传时间:2023/4/26 16:22:32
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简介:

本公开涉及组合物,其含有1)至少一种水溶性极性非质子性有机溶剂;2)至少一种氢氧化季铵;3)至少一种含有至少三个羟基基团的化合物;4)至少一种羧酸;5)至少一种第Ⅱ族金属阳离子;6)选自由6-取代-2,4-二氨基-1,3,5-三嗪所构成的群组的至少一种铜腐蚀抑制剂;以及7)水。所述组合物能有效地剥离正或负型光刻胶或光刻胶残余物,以及对半导体基板上的凸块及底层金属化材料(诸如SnAg、CuNiSn、CuCoCu、CoSn、Ni、Cu、Al、W、Sn、Co等等)是非腐蚀性的。

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