用于密集线构图的EUV光刻系统.pdf

被专门配置为在目标工件(156)上印刷一维线的极紫外(EUV)光刻刻划引擎包括：EUV辐射源(114)；图案源(144),其限定1D图案；照射单元(IU),其被配置为辐照图案源(144)；以及投影光学(PO),其被配置为以缩小因子N>1将1D图案光学成像在与1D图案光学共轭的像面上。图案源(144)的辐照可同轴或离轴。在1D图案具有第一空间频率时,其光学图像具有至少为第一空间频率的两倍的第二空间频率。图案源(144)可为平坦的或弯曲的。IU可以包括中继反射器(126)。PO的反射器可以包括多个空间上不同的反射元件(130,134),其一同形成这样的反射器。该引擎被配置为不允许形成具有基本上等于图案源(144)的1D图案的节距的空间分辨率的任何2D图案的光学图像。