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本发明涉及一种EUV投射光刻的照明系统,包含:光束成形光学单元(6),用于从基于同步加速器辐射的光源(2)的EUV原始光束(4)产生EUV聚集输出光束(7)。解耦光学单元(8)用于从所述EUV聚集输出光束(7)产生多个EUV单独输出光束(9-(i))。光束引导光学单元(10)用于在各个情况中引导各EUV单独输出光束(9-(i))朝向物场(11),光刻掩模(12)可布置在所述物场中。结果,照明系统高度无损失,并且同时灵活引导基于同步加速器辐射的光源的EUV光。
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