扫描干涉光刻系统.pdf

本发明属于光学仪器仪表设备技术领域,提供了一种扫描干涉光刻系统,包括外差光路、第一干涉光路、第二干涉光路、运动台和控制子系统；运动台,所述运动台上承载基底,以位移测量干涉仪测量运动台的位移,第一束光和第二束光在基底上聚焦干涉曝光；控制子系统根据各种测量信息生成指令,对相应器件的角度或者光束的相位进行调节,完成对第一束光和第二束光干涉曝光条纹相位漂移的锁定。本发明的扫描干涉光刻系统具有条纹图形锁定精度高、激光利用率高等优点,利用外差相位计测量曝光光束的相位,位移测量干涉仪测量运动台的运动误差,通过控制子系统进行补偿控制曝光干涉条纹,可用于制造大面积高精度密栅线渐变周期光栅。