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锤子
戴安应用文献之－AN119半导体刻蚀酸中阴离子型氟化物表面活性剂的测定
- 类别：分析方法/应用文章
- 上传人：赛默飞色谱与质谱
- 上传时间：2005/9/21 9:15:20
- 文件大小：310K
- 下载次数：642
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消耗积分 : 免积分
简介：
全氟化表面活性剂在半导体酸蚀刻溶液中起润湿剂的作用。酸蚀刻剂能够在二氧化硅材质上雕刻出细的划痕。在半导体的制作中，如果酸蚀刻剂的润湿性不好可能有气泡生成，这些气泡会附着在刻蚀表面，影响信号。可以通过增加少量的表面活性剂减少气泡的形成，从而提高溶液的润湿性。
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