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这是一种根据溶出过程的极化曲线进行分析的方法,被称为“溶出伏安法”。因溶出过程是阳极过程,所以也称为“阳极溶出伏安法”。该方法由下面两个步骤实现: (1)富集过程:将被测物质电解沉积在电极上,生成汞齐或金属,也称电析。 (2)溶出过程:施加反向扫描电压,使富集在电极上的物质溶出。即把富集在电极上生成的汞齐或金属物质进行电化学溶出,使之重新成为离子回到溶液中。 所谓同位镀汞膜的方法,是在分析溶液中加入一定量的汞盐,在待测金属离子选择的电解富集电位下,汞与待测金属同时在基体电极(通常为玻碳或石墨电极)表面上富集形成汞齐膜,然后在反向电压扫描时,被富集的金属从汞膜中溶出,在扫描曲线上产生溶出峰。 影响峰电流大小的主要因素有:电极面积、富集电位、富集时间、汞膜厚度、富集时溶液搅拌速度、富集后的静置时间及溶出时的电位扫描速度等。因此实验中必须严格控制各参数。
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