氦离子化色谱分析高纯四氟化碳杂质

四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体之一,其组分及混合气体可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。国外主要发达国家都有高纯四氟化碳的生产。随着我国半导体电子工业的迅速发展,四氟化碳的年使用量超过300万t,并逐年增加,这就带来了四氟化碳产品的质量检测问题。建立一种简便快捷、准确度高的检测四氟化碳产品的方法,以满足四氟化碳的迅速发展。高纯四氟化碳产品中的H2、O2、N2、CO2、C2F6、SF6指标是其重要杂质指标之一,对这几种杂质进行检测是进行产品分析的基础,也是四氟化碳产品等级判定的基础。如果在产品检测时能够同时将以上杂质组分定量分析,将大大提高产品分析的效率。据此本文通过查阅相关资料,结合对气体分析的经验,开展了高纯四氟化碳产品中的H2、O2、N2、CO2、C2F6、SF6杂质的同时检测方法的研究。1试验方法1·1方法简述气相色谱法是一种常用的气体分析方法之一,它具有简便快捷、灵敏度高等优点,对于气态样品的检测