美国PSS NiComp 380 系列动态光散射粒度仪的核心优势

NiComp 380 系列动态光散射粒度仪的核心优势在于其拥有专利技术的高解析度多峰反卷积NiComp分析模式，可清晰解析出紧密相邻双峰，尤其能解析出纳米分散体系的原始颗粒主峰和尾部颗粒聚集峰，这对于研究和开发纳米分散体系以及判定胶体体系的稳定性至关重要。 实例一、解析真实粒度分布 问题：样品由70% 220nm 和 30% 340nm 乳胶微粒标准物质混合而成，但用高斯模式（Gaussian）分析却得到一个288 nm 伪峰（图1）。 图1. 70% 220 nm 和 30% 340nm 两组分乳胶颗粒标准物质混合样品的 Gaussian 分析模式单峰粒度分布曲线 解决方案：用 NiComp 分析模式清晰地解析出230nm 和 345nm两个峰（体积分数分：38%、62%）。注：NiComp 380 系列粒度仪具有Gaussian和NiComp两种分析模式，当卡方值高于某一特定数值时，仪器会自动提示切换到NiComp分析模式（图2）。 图2. 70% 220 nm 和 30% 340nm 两组分乳胶颗粒标准物质混合样品的 NiComp 分析模式双峰粒度分布曲线 实例二、解析原始颗粒分布主峰和颗粒聚集峰 问题：此例中，富勒烯样品预估应在2nm 附近出现一个原始颗粒主峰和在尾部出现一个颗粒聚集峰。但使用仅有高斯分析模式的粒度仪测试却错误地解析出一个分布很宽的20nm单峰。 解决放案：使用NiComp 380 DLS动态光散射粒度仪准确地测得一个1.5 nm 原始颗粒主峰以及一个17nm 的颗粒聚集尾部大颗粒峰（图3）。 图3. 富勒烯样品的 NiComp 分析模式双峰粒度分布曲线 实例三、解析研磨液的双峰分布 问题：绝大多数动态光散射粒度仪只有高斯（Gaussian）单峰一种分析模式，不能解析双峰分布的颗粒分散体系。 解决放案：使用NiComp 380 DLS动态光散射粒度仪的NiComp分析模式准确测得硅胶的双峰分布：主峰 22.8 nm；次峰 10.1nm（图4）。 图4. 硅胶样品的 NiComp 分析模式双峰粒度分布曲线 实例四、解析胶体分散体系的温度效应 问题：温度或其它参数的变化会直接影响分散体系颗粒粒度的分布状态，而绝大多数粒度仪却不能解析温度等参数的变化对粒度分布状态的影响。 解决方案：NiComp 380 DLS动态光散射粒度仪能准确跟踪分散体系粒度分布状态发生的微小变化，因此可以根据粒度分布曲线的形态变化和峰位移获得样品稳定性或样品其它性质方面的信息。 图5. 起始状态：聚合物水凝胶，室温（26℃）。当加热到40℃时，聚合物水凝胶将会崩解，同时凝胶颗粒粒径将会减小到100nm左右。 图6. 用NiComp 380 DLS动态光散射粒度仪内置的帕尔特温控装置（Peltier Block）将聚合物凝胶加热到40℃并恒温12分钟。与预期结果一致，在100nm 左右出现一个粒度分布峰。注意：在329nm 左右处仍然有一个粒度分布峰，与起始状态的原始峰位基本相同。 图7. 当温度在40℃继续恒温15分钟时，粒度分布峰位进一步左移（粒径变小），同时初始状态峰位也开始左移。