超高真空(UHV)分子束外延(MBE)镀膜系统工作原理示意图

  1. 类别:课件讲义
  2. 上传人:台灣鎧柏
  3. 上传时间:2013/1/7 10:17:41
  4. 文件大小:94K
  5. 下载次数:34
  6. 消耗积分 : 免积分

收藏

简介:

超高真空(UHV)分子束外延(MBE)(Molecular Beam Epitaxy)镀膜系统工作原理示意图 分子束外延是利用分子在超高真空的环进下,以直线前进部与其他分子碰状态下,行进至基板上,形成致密的高纯度镀膜。 铠柏公司所生产的MBE,可在不破真空下更换样品。多孔腔体设计,可同时安装六支蒸镀源(Ion Source),并有多样蒸镀源可供选择。

打开失败或需在电脑查看,请在电脑上的资料中心栏目,点击"我的下载"。建议使用手机自带浏览器。

  • 注意:
  • 1、下载文件需消耗流量,最好在wifi的环境中下载,如果使用3G、4G下载,请注意文件大小
  • 2、下载的文件一般是pdf、word文件,下载后如不能直接浏览,可到应用商店中下载相应的阅读器APP。
  • 3、下载的文件如需解压缩,如果手机没有安装解压缩软件,可到应用商店中下载相应的解压缩APP。