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药物中的溶剂残留是指在生产药品中使用或产生的通 过实际的生产技术没有被完全去除的挥发性有机物, 美 国药典USP〈467〉 方法规定使用气相色谱条件分析这 些挥发性有机杂质。静态顶空分析与GC/MS联用由于 能够对目标化合物和未知物同时分析, 获得准确的定性 和定量结果, 因此是溶剂残留最为理想的分析技术。 布 鲁克最新推出的静态顶空自动进样器SHS-40与SCION SQ质谱联用对食品补充剂以及药品中的I类残留溶剂进 行分析的同时, 非目标化合物通过自动谱库搜索也可以 被检测出来。
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