GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法.pdf

  1. 类别:标准
  2. 上传人:yuxinlai06
  3. 上传时间:2014/3/2 5:36:01
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简介:

本标准规定了用电容位移传感法测定硅片表面局部平整度的方法。 本标准适用于无接触、非破坏性地测量干燥、洁净的半导体硅片表面的局部平整度。适用于直径100mm及以上、厚度250μm及以上腐蚀、抛光及外延硅片。

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