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锤子
用户论文(2006)：<b>《半导体技术》</b>多孔硅的有效场致发射
- 类别：分析方法/应用文章
- 上传人：上海爱建纳米科技发展有限公司
- 上传时间：2006/9/5 9:54:43
- 文件大小：207K
- 下载次数：145
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简介：
基于氢离子注入技术和典型电化学阳极浸蚀法制备了多孔硅有图(PS)薄膜。该薄膜的表面形态和特征采用扫描电子显微技术(SEM),X射线衍射(XRD)以及原子力显微技术(AFM)描述。采用大约3.5V/μm的低通场在电流强度为0.1μA/cm2处获得有效场致发射。在约12.5V/μm的叠加场下,PS薄膜的发射电流密度达到1mA/cm2。实验结果表明PS薄膜对平板显示仪器具有巨大的应用潜能。
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