第十五期newsletter(全面的纳米压印技术服务——涵盖压印设备和工艺)

在上一期Newsletter中我们简单介绍了纳米压印光刻技术(NIL)。正是由于其具有分辨率高、生产速度快、低成本等特点，这种全新纳米图形复制技术获得了越来越多的关注。国内外众多研究所和高技术企业都在开展相关技术的研发，研究领域涉及下一代半导体制造；微流体、微光学器件；生物医学；高密度存储；光子晶体等，技术已日臻成熟。 但这项技术在推广过程中，仍存在不少技术难题，这些问题极大限制了纳米压印技术在应用领域的推广。其中如何获得高质量模板是很多研究人员认为最有挑战的一项。实际上，纳米压印的高效、低成本是与模板加工的高难度相辅相成的，只不过是将这种复杂性从硅片生产上转移到压印模板加工上。 要获得纳米图形的压印模板，加工过程很复杂。 通常使用电子束(EBL)直写来进行加工，这样可以获得最高的分辨率。具体过程是，先在压模上涂上—层电子束光刻胶，然后用电子束制出高分辨纳米图案，再进行刻蚀、剥离等常规的图形转移技术，将电子束光刻分辨形成的图形转移到压模基底上。...... 您也可直接访问以下链接查看文章http://www.germantech.com.cn/new/xxlook.asp?id=1333