赛默飞推出iCAP Qc ICP-MS 测定高纯氧化钼中Cd 等痕量杂质的解决方案
- 类别:分析方法/应用文章
- 上传人:赛默飞色谱与质谱
- 上传时间:2015/3/27 14:44:44
- 文件大小:682K
- 下载次数:26
-
消耗积分 : 免积分
简介:
本方法将高纯氧化钼溶解于稀氨水中,采用iCAP Qc ICP-MS,分别采用高流量He 气碰撞和CCT 氧气反应模式测定,通过Qtegra 自动调谐功能,在Qcell 加入高流量的氧气反应,将MoO 转化为多氧化钼,将干扰质量数进行迁移,与Cd 测定同位素分开,从而消除干扰,以满足高纯氧化钼中镉的测定。
<< 查看更多
打开失败或需在电脑查看,请在电脑上的资料中心栏目,点击"我的下载"。建议使用手机自带浏览器。
- 注意:
- 1、下载文件需消耗流量,最好在wifi的环境中下载,如果使用3G、4G下载,请注意文件大小。
- 2、下载的文件一般是pdf、word文件,下载后如不能直接浏览,可到应用商店中下载相应的阅读器APP。
- 3、下载的文件如需解压缩,如果手机没有安装解压缩软件,可到应用商店中下载相应的解压缩APP。