HMDS做为增粘剂是如何用于光刻工艺中的

光刻工艺中如果使用HMDS做为增粘剂，工艺步骤是什么?有哪些问题需要解答? 1）HMDS是如何涂在硅片表面的?是像匀胶那样甩涂吗?另外，是在什么温度下操作，需不需要在加热硅片的同时涂覆，还是等去把硅片清洗完毕烘干冷却后甩涂? 答: HMDS是气相涂布在硅片表面，也就是硅片在HMDS的蒸汽中放置一会儿，温度约100-180度即可 2）在涂光刻胶之前需要把涂有HMDS的硅片烘干冷却后在涂光刻胶吗?还是把涂有HMDS的硅片不烘干直接涂胶? 答: HMDS处理后需要冷却后涂胶，但等待时间不能太长，过长处理效果会变差，建议4小时内完成涂胶 3）在HMDS上面在滴光刻胶甩涂时，光刻胶内的溶剂会不会又把HMDS层给破坏呢? 答: HMDS上面涂胶不影响HMDS的处理效果 4）在显影过程中硅片表面的HMDS层如何去除掉才能使被刻蚀的硅表面露出? 答:HMDS本身是表面改性，HMDS本身不会涂在园片表面，因此不用担心去除HMDS层 HMDS是极易挥发的液体，只要有HMDS专用的真空烘箱就可以处理了。HMDS处理流程是要必须密闭并且在真空环境下进行的，否则效果不佳。 注意:HMDS有毒性，使用时请谨慎操作