原子荧光光谱法讲座（36）—氢化物发生法中的干扰:4 气相干扰

原子荧光光谱法讲座（36）

——氢化物发生法中的干扰

4 气相干扰

气相干扰是由于挥发性的氢化物引起的，一般是指可形成氢化物元素之间在传输及原子化过程中的相互干扰。

对于气相干扰的机理，主要有以下观点：

    （1）挥发性氢化物在氩-氢火焰中形成化合物而引起相互干扰。

（2）自由基碰撞的机理：对硒和砷（Ⅳ，V）的气相干扰研究，发现硒对砷的信号抑制比砷对硒的干扰严重，并发现 As（Ⅲ）对硒的干扰比 As（V）对硒的干扰严重。在电加热石英管原子化器中缺乏自由基，硒发生快，比发生慢的砷先消耗一段时间的自由基因此硒对砷的干扰比砷对硒严重。另外，As（Ⅲ）比As（V）发生快，在测定硒时可以比 As（V）早进入原子化器与硒竞争 H^*基所以对硒的信号有较大的抑制。

    （3）气相干扰的主要原因是形成双原子分子，例如AsSb，提高原子化温度将有利消除干扰。

（4）锡、砷、锑、铋和对硒的气相干扰是由于加速了原子化器中硒原子的衰减。