薄膜参数测量

光學薄膜特性量測，可以用到的儀器相當多，也可以相當貴。但 光學薄膜從1950 年代開始發展。1960 年代、1970 年代即有很多相當優 秀的工業產品。在那個年代很多現有的儀器並不存在。所以並不是一 定要有很貴的儀器才能從事光學薄膜的研發。這裡我們將談一些用便 宜儀器即可以量測的方法。而貴的儀器也會提一下。 主要需要量度的常數為厚度、n、k 值。 3 a. 連續光譜橢圓偏光儀(Woollam VASE)(系共同儀器) 此為可變角度，而涼度撥長範圍為0.25μm～1.7μm。 b. 掃描式電子顯微鏡(Hitachi S-3000N)及能譜式X 光譜儀 (Hitachi V4105) 若有個標準的成分當比較，可以用來量混 合物的組成成分。 c. X 光繞射儀(Rigaku D/MAXⅢC) (系共同儀器) 可以用來量測結晶狀態。 d. 紫外-可見-近紅外光譜分析儀(VARIAN CARY5E) (系共同儀器)量度穿透光譜。 e. 探針式膜厚計(VEECO DetakⅣ)(系共同儀器) 量度薄膜厚度。 f. 環型濺鍍靶頭(本研究室自製) g. 真空系統(本研究室已經有好幾部)