利用蛋壳里ICP-MS在反应模式下测定半导体有机溶剂中的含铁纳米颗粒

半导体产品中的金属污染使产品品质 降低。半导体宽度越小，对金属污染物的 容忍度越低。最常见的金属污染是过渡 金属元素和碱金属元素。过渡金属元素 往往遍布半导体材料中并在表面形成 多种氧化物，其中铁是最最常见的污染物。 单颗粒ICP-MS已成为纳米颗粒分析的一种常规手段，采用不同的进样 系统，能在100-1000颗粒数每毫升的极低浓度下对纳米颗粒进行 检测、计数和表征。除了颗粒信息，单颗粒ICP-MS还可以在未经前级 分离的情况下检测溶解态元素浓度1。许多文献表明单颗粒ICP-MS 可以在各种基质条件下对纳米颗粒进行测量和表征，包括化学机械 抛光浆料6。