使用RBST115清洗TIMS离子源及样盘

  1. 类别:分析方法/应用文章
  2. 上传人:图玛化工
  3. 上传时间:2016/10/26 13:35:15
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简介:

清洗工艺开发的一般原则 对于使用水基清洗剂,我们一般需要遵循以下的三个基本原则: - 考察清洗剂与器件的材质相容性。在本案例中由于器件的材质是不锈钢、陶瓷。对碱性清洗剂具有较好的耐受性,所以可以选择中等碱性的RBS T 115清洗剂。 - 分析污染物的来源与特征。在本案例中,污染物主要来自于激发后的离子态物质。能够被水基清洗剂湿润和分离。虽然如此,由于器件长期的使用,在超声波清洗前,使用石英刷刷洗,以去除顽固的污渍,仍然是有效的方法。 - 根据清洗工艺选择合适的清洗剂。本案例中采用超声波清洗器清洗,所以选择适合超声波清洗的RBS T 115清洗剂。 主清洗程序完成后,必须使用去离子水冲洗,以去除清洗剂的残留。?

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