n-on-p锑化铟薄膜的液相外延生长

  1. 类别:分析方法/应用文章
  2. 上传人:科捷仪器
  3. 上传时间:2017/7/13 9:16:42
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简介:

锑化铟是Ⅲ-V族化合物半导体,它具有窄禁带宽度和高迁移率等特点。在300K时,禁带宽度为0.17eV,电子迁移率约为7*10 4cm²·V-1·s-1:在77K时,禁带宽度为0.23eV,电子迁移率的6*10 5cm²V-1·s-1。在红外波段有较高的灵敏度,是一种适宜制作中波红外电探测器、霍尔器件和磁阻元件的材料。近年来用其制备的红外光电探测器已在红外跟踪

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