纳米缓释型阿维菌素粉剂的防紫外光降解性能测试

在紫外光照射条件下 ,阿维菌素纳米缓释粉剂的释 放浓度先迅速升高 ,达到峰值后又迅速下降 ,最后长 时间维持低浓度。这是由于吸附在载体外表面的药 物较多且释放速度较快 ,大于光降解速度从而形成 溶液中浓度净增长。随着外表面药物的减少 ,释放 速度逐渐减慢 ,此时主要是吸附在孔道及空腔内部 的药物释放 ,释放速度逐渐小于光降解速度 ,使得浓 度降低。然而由于吸附在孔道及空腔内部药物的缓 慢释放 ,使得溶液中药物的浓度能够在较长时间内 维持在一个低浓度水平 ,而不至于因为光降解而到 达零浓度。100 min 后停止照射 ,溶液的浓度又逐渐 升高 。可见在控释载体内部的药物受到良 好保护。所以新型纳米控释粉剂不仅克服了微胶囊 制剂因囊壁崩裂导致的药物突然释放而浓度骤增的 缺陷 ,且保护了光敏感药物 ,达到控制释放和维持浓 度的目的。