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锤子
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半导体行业硅片制造中经常使用浓磷酸或氢氟酸刻蚀,对磷酸、氢氟酸等高纯试剂中的阴离子含量有明确的 规定,其中氯离子、硫酸根、硝酸根的限量分别为000μg/L、000μg/L、00μg/L。当在%(W/W)的磷酸中 检测0.mg/L的氯离子时,氯离子与磷酸根浓度比为:0 。如果将样品稀释,可以减弱其他高浓度离子对检测结果 的干扰,但是有可能造成痕量的杂质离子无法被检测出来。
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