赛默飞离子色谱在浓氢氟酸中的阴离子应用
- 类别:分析方法/应用文章
- 上传人:赛默飞色谱与质谱
- 上传时间:2017/11/25 16:16:17
- 文件大小:4056K
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简介:
半导体行业硅片制造中经常使用氢氟酸刻蚀,这一行业对氢氟酸等高纯试剂中的阴离子含量有严格的要求,
多为几个mg/L。本方法先用IonPac ICE-AS离子排斥柱将痕量阴离子与大量氢氟酸分离,再用浓缩富集柱将痕量
阴离子富集,最后采用阴离子分离柱分离测定阴离子。
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