如何用耗散型石英晶体微天平测量薄膜降解

薄膜降解—时而需要时而避免 我们周围有许多工艺流程中，包括自发进行的和人为设计的，会有薄膜或涂层的降解或者剥落。一个典型的例子是蚀刻或腐蚀，比如说在管道基础设施中，这是一个不希望的过程，但是在制造电子元件时却是非常需要的。另一个需要薄膜剥落的领域是用洗涤剂去除油污。在这两种情况下，了解材料的降解和剥落就十分重要了，这样便可以对其进行优化和控制。既能防止不必要的降解，又能提高需降解薄膜的脱落速度。为了能够控制这一过程，降解或者剥落必须被模拟和理解。QCM-D，原理上是一个测量微小质量的天平，可以测量和量化这种膜的降解，无论是在数量上还是在动力学方面。 定性和定量测量薄膜的降解 当薄膜降解时，表面会失去质量。初始表面结合层的厚度也会随之减少。这是两个参数正是QCM-D在纳米尺度所能够实时测量的。