牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀-ALE-Flyer_2015-LR牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀-ALE-Flyer_2015-LR

  1. 类别:仪器样本
  2. 上传人:牛津仪器
  3. 上传时间:2018/8/8 10:28:33
  4. 文件大小:452K
  5. 下载次数:20
  6. 消耗积分 : 免积分

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简介:

•Etch rates 2 to 7Å/cycle •Demonstrated results in a-Si, Si, SiO2, MoS2 layer etching •Fast recipe control down to 10ms •ALD-style gas dose delivery using “ALD valves” with 10ms open-close response •Ultra low power operation •Ability to etch in ALE or normal etch mode

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