掺杂辉石、电气石和/或磷灰石的花岗岩体系中的OH缺陷：5-20 kbar的实验研究（英文原文）

研究了石英中OH缺陷与体积体系中Li含量和压力的关系。石英晶体生长在含水的花岗岩体系中，含不同量的Li、B和P，在起始混合物中以辉石、电气石或磷灰石等辅助相提供。在900~1100°C温度和5~20 kbar压力下，用活塞缸装置进行了高压实验，合成的石英晶体用红外光谱、电子探针和 LA-ICP-MS 分析。所有红外吸收光谱都显示了AlOH(3313，3379和3431 cm−1)和 (4H)Si缺陷 (3585 cm−1) 的吸收特征，而石英则生长在Li和B体系中，另外两条带分别与LiOH(3483 cm−1)和BOH缺陷(3596 cm−1)有关。进一步观察到，LiOH掺入量随原料中辉石含量的增加而增加，随着压力的增加而降低，直到在压力高于15 kBAR没有发现LiOH缺陷。特别是，LiOH缺陷最明显的减少发生在接近高石英/低石英转变的较窄的压力区间(10-15KBAR)。但是，过渡和缺陷合并之间的联系仍然不清楚。Li的总浓度总是超过Li偶联的LiOH缺陷，说明同时存在干AlLi缺陷。本文结果表明LiOH缺陷仅可以在生长在中、上地壳剖面(如热液石英)的石英晶体中发现，而不存在于造山带花岗岩深根部的石英中。